光清洗燈四
所屬分類： 光清洗燈
低壓紫外汞燈發(fā)射的 185nm 和 254nm 波長的紫外光除有清洗去除物體表面的有機(jī)污染物的功能外，而且還能夠進(jìn)行表面改質(zhì)。其基本原理為：光子能量把物體的表層分子鍵打開的同時(shí)拉出
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低壓紫外汞燈發(fā)射的185nm和254nm波長的紫外光除有清洗去除物體表面的有機(jī)污染物的功能外，而且還能夠進(jìn)行表面改質(zhì)。其基本原理為：光子能量把物體的表層分子鍵打開的同時(shí)拉出H原子和C原子，與空氣中的氧氣分解出來的活性氧（O）生成極性很強(qiáng)的原子團(tuán)（OH，CHO，COOH）即羥基等活性基，同時(shí)材料表面有機(jī)污染物的清洗效果顯著，活化的基體表面具有良好的粘合力和鍵合特性，這些羥基和涂料、粘合劑、電鍍材料相結(jié)合，形成新的化學(xué)鍵，從而使材料表面得到通常情況下得不到的很強(qiáng)的粘結(jié)強(qiáng)度，或者使材料得到穩(wěn)定的表面性能。
二、紫外光表面清洗和改質(zhì)技術(shù)的先進(jìn)性
2.1光清洗技術(shù)是隨著當(dāng)代光電子信息技術(shù)發(fā)展起來的，光電子產(chǎn)品的高性能、微型化要求表面潔凈度越來越高，常規(guī)的清洗方法（如水洗、化學(xué)溶液洗、超聲波清洗等）已不能滿足要求，UV光清洗能夠達(dá)到常規(guī)的清洗方法難以達(dá)到的高清潔度，而且不存在三廢處理問題，有利于環(huán)境保護(hù)。
2.2光清洗是在常溫、常壓的環(huán)境中進(jìn)行的，是一種非接觸式的干法清洗技術(shù)。光清洗時(shí)被清洗的表面除了光子，不與任何物體發(fā)生接觸，因?yàn)橛袡C(jī)物經(jīng)過紫外光照射發(fā)生光敏氧化反應(yīng)后，生成可揮發(fā)性氣體（CO2、CO、H2O等）從表面消散，隨著排風(fēng)系統(tǒng)抽走，不可能重返被清洗的表面，不會(huì)像溶液清洗時(shí)發(fā)生二次污染。
2.3一般情況下，光清洗的表面不會(huì)受到損傷，由于光子的能量相對(duì)比氬等離子體濺射或惰性氣體離子轟擊的能量小，光清洗后的表面不會(huì)受到損傷或發(fā)生晶體缺陷的現(xiàn)象。
2.4光清洗對(duì)物體表面微細(xì)部位（如孔穴、微細(xì)溝槽等）具有有效而徹底的清洗效果。由于紫外光是納米短波紫外線，能夠射入材料表面的極為細(xì)微的部位，發(fā)生光敏氧化反應(yīng)，充分表現(xiàn)出光清洗的徹底性。
2.5先進(jìn)工業(yè)化國家已經(jīng)開始將光清洗技術(shù)由光電產(chǎn)品向金屬、光學(xué)、塑料、橡膠等相關(guān)產(chǎn)品的生產(chǎn)過程發(fā)展，光清洗技術(shù)的應(yīng)用范圍十分廣闊，具有很強(qiáng)的技術(shù)生命力。
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